GB/T 16879-1997 掩模曝光系統(tǒng)精密度和準(zhǔn)確度的表示準(zhǔn)則

【 標(biāo)準(zhǔn)編號(hào) 】 GB/T 16879-1997
【 標(biāo)準(zhǔn)名稱(chēng) 】 掩模曝光系統(tǒng)精密度和準(zhǔn)確度的表示準(zhǔn)則  
【 英文名稱(chēng) 】 Guidelines for precision and accuracy expression for mask writing equipment
【 發(fā)布單位 】 國(guó)家技術(shù)監(jiān)督局
【 批準(zhǔn)單位 】 國(guó)家技術(shù)監(jiān)督局
【 發(fā)布日期 】 1997-6-20
【 實(shí)施日期 】 1998-3-1
【 開(kāi)本頁(yè)數(shù) 】 8P
【 引用標(biāo)準(zhǔn) 】 SJ/T 10152-91; SJ/T 10584-94
【 采用關(guān)系 】 IDT SEMI P21-92
【 起草單位 】 中國(guó)科學(xué)院微電子中心
【 起 草 人 】 陳寶欽; 陳森錦; 廖溫初